目前常用的拋光方法有幾種呢？

隨著塑料製品日溢（yì）廣泛的應用，如日（rì）化用品和（hé）飲料包裝容器等，外觀的需要往往要求塑料模具型腔的表麵達到（dào）鏡麵拋光的程度。而生產光學鏡片、鐳射唱片等模具對表（biǎo）麵粗糙度要求極高，因而對拋光性的要（yào）求（qiú）也極（jí）高（gāo）。

　　1 機（jī）械拋光

　　機械拋（pāo）光是*切削、材料表（biǎo）麵（miàn）塑性變形去掉被拋光後的凸部而得（dé）到平滑麵的（de）拋光（guāng）方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙（zhǐ）等，以手工操作為（wéi）主，特殊零件如回轉體表麵，可使用轉台等輔助工具，表麵質量 要求高的可（kě）采用超精研拋的方法。

　　超精研（yán）拋是采用特製的磨具，在含有磨料的（de）研（yán）拋液中，緊壓在工件被加工表（biǎo）麵上，作高速旋轉運動。利用該技（jì）術可以達到Ra0.008μm的表麵粗糙度，是（shì）各種拋光方（fāng）法（fǎ）中最（zuì）高的。光學鏡片模具常采用這種（zhǒng）方（fāng）法。

　　2 化（huà）學拋光

　　化學拋光是讓材料在化學介質中表麵微觀凸出的部分較（jiào）凹（āo）部分優先溶解，從而得到平滑麵。這種方法的主要優點是不需複（fù）雜設（shè）備，可以拋光形狀複雜的工件，可以同（tóng）時（shí）拋光很多工件，效率高。化學拋光的核（hé）心（xīn）問題（tí）是拋（pāo）光液的配製。化學拋光得（dé）到的表麵粗糙度一般（bān）為數10μm。

　　3 電解（jiě）拋光

　　電解拋光基本原理與化學拋光相同（tóng），即*選擇性的溶解材料表麵微小凸（tū）出（chū）部分，使表麵光滑。與化學拋光相比（bǐ），可以消除陰極反應的影響，效果（guǒ）較好。電化學拋光過程（chéng）分為兩（liǎng）步：

　　（1）宏觀整（zhěng）平 溶解產物向電解液中擴散，材料表麵幾何粗糙下降，Ra＞1μm。

　　（2）微光平整 陽（yáng）極極（jí）化，表麵（miàn）光亮度提高，Ra＜1μm。

　　4 超聲波拋光

　　將工件放入磨料懸浮液中並一起置於超聲波（bō）場中，依*超聲（shēng）波的振蕩作用（yòng），使磨料在（zài）工件表（biǎo）麵磨削拋光。超聲波加工宏觀力小，不會引起工件變形，但工裝製作和安裝較困難。超聲波加工可以與化學或電化學方法（fǎ）結合（hé）。在溶液（yè）腐蝕、電解的基（jī）礎上，再施加超聲波振動攪拌（bàn）溶液，使工件表麵溶解產物脫離，表麵附近的（de）腐蝕或（huò）電（diàn）解質均勻；超聲波在（zài）液體（tǐ）中的空化作用還（hái）能夠抑製腐蝕（shí）過程，利於表麵光亮化

　　5 流體拋光

　　流體拋光是依*高速流動的液體及其（qí）攜帶的磨粒衝刷工件（jiàn）表麵達到（dào）拋光的目的。常用方法有：磨料噴射加工、液體噴射加工、流體（tǐ）動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅動，使攜帶磨粒的（de）液體介質高速往複流過工件表麵。介質主要采（cǎi）用在較低壓力（lì）下流過性好的特殊化合物（聚合（hé）物狀物質）並摻上磨（mó）料（liào）製成，磨料可采用碳化矽粉末。

　　6 磁（cí）研磨拋光

　　磁研磨拋光（guāng）是利用磁性磨料在（zài）磁場作用下形（xíng）成磨料（liào）刷，對工件磨削加工。這種方法加工（gōng）效率高，質量好，加工條（tiáo）件容易控製，工作條件（jiàn）好。采用合適的磨料，表麵粗糙（cāo）度可以達到Ra0.1μm。

　　在塑料模具加工中所說的拋光與其（qí）他行業（yè）中所要求的表麵拋光有很大的不（bú）同，嚴格來說，模具的拋光應該稱為鏡麵加工。它不僅對拋光本身有很高的要求並且對表麵平整度、光滑度以及幾何精確度也有很高的標準。表（biǎo）麵拋光一般隻要求（qiú）獲得光亮的表麵即可。

　　標簽：深圳塑膠模（mó）具廠